1. 모집대상 : 2010년 박사학위 취득예정자 또는 旣취득자

2. 모집분야 : 삼성전자 DS부문 반도체연구소 선행공정 및 소자개발

3. 지원기간 : 09월 16일(水) ∼ 09월 30일(水) 24시

4. 채용분야

 □ Advanced Process Development

   - Photolithography (including EUV, e-beam, OPC/RET) Photo Resist, Oxidation,

     Cleaning & CMP, Diffusion, Thin Film, CVD, Ion Impantation, Metallization,

     Metrology & Inspection, etc.

     ※ OPC : Optical Proximity Correction (Comput. Litho)

 □ Module Development

   - Device Isolation, Transistor, Capacitor, Dielectric

   - High-K/Metal Gate, SiO2/SiON Gate Dielectric

   - Low-K, Interconnect, etc.

 □ FEOL/BEOL Process Integration (DRAM/Flash/Logic, etc.)

 □ New Memory : PRAM, STT-MRAM, ReRAM, etc.

 □ TCAD/ECAD

   - Process & Device Modeling, Material Modeling

   - Circuit Compact/Reliability Modeling

   - Circuit Simulator Development

 □ Advanced CMOS Image Sensor(CIS) Development

   - Pixel Design, Image Signal Processing, Mixed IC Design, Analog/Desital Design

   - CIS Process Development

5. 지원방법

 □ dearsamsung.co.kr -> 경력채용 -> DS부문 반도체연구소 박사 채용공고 선택 -> 화면아래 "지원하기" 버튼 클릭 후 지원서 작성(DS부문 반도체연구소 1지망 선택)

 □ 채용담당자에게 E-Mail로 이력서 제출

 ※ 본인이력과 전공/연구분야소개를 포함한 세부이력서 필히 첨부(자유형식)

6. 캠퍼스 리크루팅 실시 예정 (일정 확정 후 대상자 개별통보)

7. 선발절차

 □ 1차: 서류전형(지원서 검토) → 2차: 면접전형(기술/인사) → 3차: 채용건진

8. 채용담당자

 □ 조주영 대리 : juyoung@samusung.com, 031-208-3907

 □ 박지혜 사원 : jh1982.park@samsung.com, 031-208-3888